<h1>第331章 所托非人</h1>
emem“第一个，需要高精度的光刻机。现在你们这两台，是没有办法。但是他们上不了生产线。要新型号的，精度至少要达到10微米级别。”
emem当前在国际上的主流光刻机的精度，已经达到了0.5μm（微米），也就是 500nm（纳米）。
ememLED用不到这么高的精度，后世最高的LED光刻机的精度，也才 800nm 左右。而在这个时代，LED光刻机，只要精度在 10μm之下，就可以接受了。
emem在当前的LED产业链里，单独提高光刻机精度未必有用，因为后续的工艺环节，精度上不来。继续提高精度，就已经超出了人可以操作的范围。
emem从资料上看，这个时代的国产光刻机，已经可以达到2~3μm的精度，作为LED光刻机，是富富有余。
emem但是，这话，要看跟谁讲。科仪的这种实验室用光刻机，其精度嘛，成永兴居然不知道该用什么词来形容，也许是 1mm?也就是 1000μm?
emem“第二个呢？”
emem“第二个，我需要定制一台大光刻机。”
emem向下一个技术节点冲锋的条件已经具备，可以先期着手做些准备工作了。
emem“大光刻机？多大算大？”
emem刘民学听说过光刻机的指标，都是以精度为单位，例如毫米，微米，纳米但首次听说有用《大》这个定语的。
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emem“12英寸！可以光刻12英寸的光刻机。”
emem“12英寸？小成，你不是开玩笑吧！现在最大的晶圆片，才多大啊！”
emem世面上主流的晶圆片，都是6英寸以下的。8英寸也才刚刚被研发出来。12英寸，按理应该出现在2000年，也就是10年之后！
emem“你别管我要刻什么！我就要刻这么大的东西。是不是晶圆，就不干你事了。像这次的蓝光，基底材料是蓝宝石，而不是硅晶圆，一个道理。”
emem“小成，你也知道，我们在光刻机方面的力量并不强。而且我们已经彻底放弃这些产品线了。
emem以前我们就吃了这个亏，什么都想做，但什么都做不好。而且你的要求，不是大尺寸，就是高精度，恐怕是强人所难啊！”
emem刘民学也是技术出身。对于完成不了的任务，是不敢答应下来的。
emem更何况光刻机的精度，一般也随着晶圆面积的增大而提高，现在能用在8英寸晶圆上的光刻机，绝对是世界一流的光刻机。那么12英寸，可想而知，它的精度要到什么程度。
emem科仪公司的强项在于真空设备，镀膜设备。所以MOVCD交给他们，正对路。但是光刻机，所托非人。
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emem“真做不了？”
emem“小成，你也在我们厂子呆过，厂子什么地方强，什么地方弱，你心理是有数的。
emem你这两项要求，我们都没有把握。你要是硬要我们做。我们可以接下，但是结果未必如人意。”
emem由于共同工作过一段时间的缘故，双方之间的关系处得也很不错。都是有话说话。
emem“行啊，我再琢磨琢磨吧。”
emem成永兴只好收起侥幸心理。靠科仪厂包打天下的计划破产！
emem光刻机在接下来的几个项目里，地位都是非常关键。一个是LED的大规模量产。另一个则是下一个节点项目。一个可以被控制在手里的光刻机厂家，就是非常重要的一环。
emem可是到哪里去找下一个科仪厂呢。
emem90年代的半导体设备厂，在成永兴的印象里是死绝了。从后世的资料上看，居然一个都没有剩下来。
emem后世几个有名的光刻机厂家，都是2000年之后才重新成立的。
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