光刻机，主要可以用于芯片、封装和LED的制造。
尤其在芯片的制作工序上。
有六大主要步骤：
沉积、光刻胶涂覆、光刻、刻蚀、离子注入和封装。
单看步骤似乎很简单，与三步装大象没什么差别。
可实际上，简单的名词背后完全是几十年努力的心血，甚至还可能研究不出来。
目前，华国已经有了第一台5纳米光刻机。
5纳米什么概念？
那已经是对光硬控到极致的最小误差了！
在5纳米光刻机出世之前，甚至华国网民不敢想能造的出来的程度。
一开口就是“自嗨”。
但还是出来了！
5纳米光刻机的问世，标志着华国在半导体领域取得了空前的进步。
是华国第一次在半导体领域不再被卡脖子。
而是握紧了拳头。
这原本就是大好的消息了。
可葛教授等人怎么甘心就到这个程度？
如果……